高端测试
CT测试的优势
三维立体成像
工业CT能够得到清晰、准确、直观的三维立体图像，能够展示和还原被检测物体的内部结构、组成和缺损状况，并且可以通过软件对各个面进行逐层断面分析。
分辨率高
目前主流的工业CT的分辨率能都达到um级别，适用于连接器、半导体封装器件、电池、焊接器件、结构件、铸件等内部微小缺陷的检测。
无损
CT检测可以在不破坏样品的前提下进行检测，是最有效的一种无损检测手段。
高端谱学
多测试领域 满足多元化需求
高端电镜/原位
多测试领域 满足多元化需求
同步辐射光源
同步辐射光源被称为高品质的巨型X射线机和超级显微镜，是支撑众多学科前沿基础研究与高新技术研发不可或缺的实验平台。
美国APS光源
新加坡光源
台湾光源
日本Spring-8光源
澳大利亚光源
同步辐射的优势
宽波段
同步辐射光的波长覆盖面大，具有从远红外、可见光、紫外直到
X射线范围内的连续光谱，并且能根据使用者的需要获得特定波长的光
。因为这个特性，使同步辐射装置可以同时进行多项检测，目前的同步辐射光源可供十几个试验站同时工作。
高准直
同步辐射光的发射集中在以电子运动方向为中心的一个很窄的圆锥内，张角非常小，几乎是平行光束，堪与激光媲美。
高偏振
从偏转磁铁引出的同步辐射光在电子轨道平面上是完全的线偏振光，此外，可以从特殊设计的插入件得到任意偏振状态的光
。
高纯净与高亮度
高纯净：同步辐射光是在超高真空中产生的，是非常纯净的光。 极大地降低了环境内杂质对实验结果的影响。
高亮度：同步辐射光源是高强度光源，有很高的辐射功率和功率密度，第三代同步辐射光源的 X射线亮度是 X光机的上千亿倍。
高亮度：同步辐射光源是高强度光源，有很高的辐射功率和功率密度，第三代同步辐射光源的 X射线亮度是 X光机的上千亿倍。
窄脉冲
同步辐射光是脉冲光，有优良的脉冲时间结构，其宽度在几十皮秒至几十纳秒之间可调，脉冲之间的间隔为几十纳秒至微秒量级，这种特性对“变化过程”的研究非常有用，如化学反应过程、生命过程、材料结构变化过程和环境污染微观过程等。
可精确预知
同步辐射光的光子通量、角分布和能谱等均可精确计算，因此它可以作为辐射计量，特别是真空紫外到X射线波段计量的标准光源。
CT测试的适用领域
工业CT作为一种实用的无损检测技术，已广泛应用于航空、石油、钢铁、机械、汽车、采矿等领域，它可以在无损伤状态下，准确检测工件的内部结构。
工业CT的应用领域有：半导体质量检测、印刷电路板及焊接制程的缺陷检测、电子、电器缺陷检测分析、孔隙率检测、材料结构检验分析及尺寸量测、逆向工程应用、数模比对、壁厚分析···
高端谱学介绍
正电子湮灭谱仪
飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）
辉光放电光谱/质谱
穆斯堡尔谱仪
正电子湮灭谱仪介绍：
正电子湮没技术（Positron Annihilation Technique，PAT），是一项较新的核物理技术，它利用正电子在凝聚物质中的湮没辐射带出物质内部的微观结构、电子动量分布及缺陷状态等信息，从而提供一种非破坏性的研究手段而备受人们青睐。。正电子湮灭寿命谱仪还用于测量材料中自由体积的大小和数量。
正电子湮灭谱仪特点：
通过测定材料于不同条件的三重态正电子素（o-Ps）的本征寿命和强度来获取这些信息。所谓自由体积，就是指材料中不属于任何晶格排列的空隙体积，会对材料的许多性能产生影响，如热导率、机械强度等。因此，通过测量自由体积的大小和数量可以评估材料的性能。
正电子湮灭谱应用领域：
现在正电子湮没技术已经进入固体物理、半导体物理、金属物理、原子物理、表面物理、超导物理、生物学、化学和医学诸多领域。特别是材料科学研究中，正电子对微观缺陷研究和相变研究正发挥着日益重大的作用。
飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）介绍：
飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS），是一种极高分辨率的测量技术，通过用一次离子激发样品表面，打出极其微量的二次离子，根据二次离子因不同的质量而飞行到探测器的时间不同来测定离子的。
飞行时间二次离子质谱仪特点：
它可以通过离子束对样品表面进行轰击，产生二次离子，从而精确确定表面元素的构成，具有高灵敏、高分辨率的特点，可以分析表面化合物的结构和有机样品的成分，并可以得到样品表面甚至三维的成分图，是表征元素和化合物空间结构的有力工具，一般不可定量，仅可用于定性分析。
飞行时间二次离子质谱仪应用领域：
飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）是一种用于化学、材料等领域的表面分析仪器。常用于电池材料，钙钛矿材料，硅材料等分层结构的分析以及相关元器件的成分分析。
辉光放电光谱/质谱介绍：
辉光放电光谱/质谱（GDMS）是一种利用辉光放电源作为离子源与质谱仪联接进行质谱测定的一种分析方法。它将辉光放电离子源和高分辨率质谱仪结合，主要应用于高纯度无机固体材料的成分分析，可以一次扫描即可测量从锂（Li）到铀（U）之间所有元素成分。
辉光放电光谱/质谱特点：
GDMS具有基体效应小、线性动态范围宽、检测限低等优势。
辉光放电光谱/质谱应用领域：
可对导体、半导体和绝缘材料进行分析。广泛应用在高纯金属、合金、半导体材料、高纯石墨等行业，为半导体材料制造行业和电子材料制造行业提供纯度精确测量的方案。
穆斯堡尔谱仪介绍：
用来对物质y射线无反冲共振吸收效应进行测定的仪器，即为稳斯堡尔谱仪。其某本原理为样品中存在的稳斯堡尔核吸收由放射源(光源)射出的光子，使得共振吸收谱形成。由于品中穆斯堡尔核与核外化学环境的相互作用，会使得共振吸收谱线的位置、形状、数目发生变化。反过来，对所测穆谱的这些变化加以利用，从而将穆核周围化学环境的信息推断出来放射源，振动子，探测器，计算机化的多道分析器等为构成穆斯堡尔谱仪的主要部分。
穆斯堡尔谱仪特点：
1、有极高的分辨率，以57Fe的共振吸收为例，能量(E0)为14.千电子伏,谱线自然宽度()为4.X10-9电子伏，[/E~3,2X10-13，分辨率达1013分之一；
2、穆斯堡尔效应对核外化学环境的变化十分灵敏，适用于研究固态物质的精细结构及超精细结构；
3、由于是特定核(如57Fe，119Sn)的共振吸收斯堡尔效应不受其他核和元素的于扰；
4、穆斯堡尔效应受核外环境影响的作用范围一般小于 2.0nm(限于相邻二、三层离子之内)，特别适用于细晶和非晶态物质。
穆斯堡尔谱仪应用领域：
斯堡尔谱仪已广泛用来研究地质样品。已发现的穆斯堡尔核有数+种，但在一般条件下仅能观察到57Fe、119S的穆谱。所以,仪器适用于含一定量Fe、Sn的样品，可以提供价态，化学键性，阳离子占位和有序一无序分布、配位结构、磁性和相分析等方面的信息。
高端电镜/原位介绍
球差校正透射电子显微镜
聚焦离子束扫描电镜（FIB-SEM）
原位扫描电镜
原位透射电镜
球差电镜介绍：
球差校正透射电子显微镜是一种用于观察材料形貌和电子衍射图案的透射电镜。它可以在两种模式下工作，分别是“TEM模式”和“STEM模式”。在TEM模式下，球差电镜主要用于观察材料的形貌；在STEM模式下，球差电镜可以进行EDS和EELS成分线扫和mapping。
球差电镜特点：
相比传统TEM，球差电镜由于有效削减了像差，分辨率显著提高。传统TEM、STEM的分辨率在纳米、亚纳米级，而球差电镜的分辨率则能够达到埃级和亚埃级别，是研究单原子和原子相的有力工具。
球差电镜应用领域：
球差电镜广泛应用在单原子催化、合金、石墨烯、量子点等材料的表征上。
聚焦离子束扫描电镜（FIB-SEM）介绍：
聚焦离子束扫描电镜（FIB-SEM）是一种集成了离子束和扫描电镜的微观分析仪器。可以在切割样品的同时进行形貌和能谱分析，在微柱切割，TEM制样，样品表面加工等方面应用广泛。
聚焦离子束扫描电镜（FIB-SEM）特点：
它可以使用细小的离子束对样品进行高分辨率成像和精确加工，同时与扫描电子显微镜相结合，实现微观结构到纳米尺度的综合分析。
聚焦离子束扫描电镜（FIB-SEM）应用领域：
FIB-SEM主要用于样品的样品截面分析，TEM样品制备，三维重构，器件微纳加工，APT样品制备，器件失效分析等，在纳米技术、材料科学、半导体，电池材料等领域具有广泛的应用。
原位扫描电镜介绍：
原位扫描电镜是一种动态观察和分析材料微观变形形貌及断裂机制的手段。相较于常规电镜具有一系列的原位装置，可以实现变温和拉伸等实验条件。
原位扫描电镜特点：
它与传统的扫描电镜实验方法相比，可以在微观层面上对材料的力学性能和热学性能进行动态研究。通过原位扫描电镜技术，可以实现对材料微观结构的变化进行原位成像，并深入理解形态变化的原因。
原位扫描电镜应用领域：
原位扫描电镜技术可以应用于多种材料，如金属、陶瓷、玻璃、陶瓷块体材料或薄膜、电镀层、钎焊或焊接接头、矿物、木材、有机材料等。
原位透射电镜介绍：
原位透射电子显微镜是一种用于材料科学领域的分析仪器，在常规透射电子显微镜上配备原位样品杆和相匹配的软件。
原位透射电镜特点：
原位透射电镜可实现原位观察的样品的微观结构变化，常见的原位条件有变温、加电压、力学等。
原位透射电镜应用领域：
原位透射电子显微镜可以应用于物理、化学、材料科学等多个领域，如催化、电池、医药等领域的研究。
